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    半导体用水设备的处理系统及工艺流程

    点击次数:679  发布时间:2018-10-19
      半导体用水是一种介于导体和绝缘体之间的材料,在半导体加工过程中需要使用水进行处理,该水质的要求比较高,不能含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设备采用先进的制水技术,有效去除水中杂质,保证设备的出水水质。
     
      半导体用水主要用于高技术的工业生产过程,尤其是半导体这种要求较高的技术行业,对水质要求非常严格。半导体用水中K+、Na+、Cu2+、Zn2+、Fe2+、Cr6+、Mn2+等金属离子含量都要在ppb级以下,总硅小于3ppb,TOC小于50ppb,电阻率在18MΩ·cm以上,水质中及其微量的杂质原子都会对产品造成极大的影响。
     
      半导体用水制备之预处理系统:一般水源水都难以满足超纯水的要求,在超纯水的和制备过程中,预处理是非常必要的。絮凝沉淀、氧化、吸附是常用的预处理工艺流程。原水中加入絮凝剂或采用电解絮凝方式,可以去除悬浮物、胶体和少部分有机物。氧化主要是去除易生物降解的有机物和氨氮。吸附同样去除水中的悬浮物和胶体。
     
      半导体用水工艺:
     
      1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
     
      2、预处理-一级反渗透-加药机-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象
     
      3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象
     
      4、 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象
     
      半导体用水设备特点:
     
      1、进口零部件组装,更加耐用。
     
      2、可以随时增加膜的数量以增加处理量。
     
      3、自我保护系统,故障急停。
     
      4、复合膜拥有更高的分离率和透过率。
     
      5、水利用高,能产生更多的可饮用水。
     
      6、体积更小,使用工地面积小。
     
      7、淡水即可冲洗符合膜。
     
      8、部件更加耐用,长期无需维修。
     
      9、电子半导体用水设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。
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